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用于氧化锆和二硅酸锂框架的釉料。
即用型。
发光。
仅需烧一次釉。
经第一次烧釉后已获得均匀的釉层。
特别适用于氧化锆或二硅酸锂制成的整体式修复体。
可靠的材料表面润湿。
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